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dc.contributor.advisorMargot, Joëlle
dc.contributor.authorQuintal-Léonard, Antoinefr
dc.date.accessioned2012-05-28T13:55:47Z
dc.date.available2012-05-28T13:55:47Z
dc.date.issued2008-03-13fr
dc.date.submitted2007fr
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/1866/8042
dc.subjectGravure physico-chimiquefr
dc.subjectPlasmafr
dc.subjectProfils de tranchéesfr
dc.subjectChlorefr
dc.subjectPhotolithographiefr
dc.titleÉtude fondamentale de la gravure physico-chimique de SiO₂ dans un plasma haute densitéfr
dc.typeThèse ou mémoire / Thesis or Dissertationfr
etd.degree.disciplinePhysiquefr
etd.degree.grantorUniversité de Montréalfr
etd.degree.levelMaîtrise / Master'sfr
etd.degree.nameM. Sc.fr
dcterms.descriptionMémoire numérisé par la Division de la gestion de documents et des archives de l'Université de Montréal.fr
dcterms.languagefrafr


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