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Voici les éléments 1-1 de 1
Analyse des processus de dérive lors de la gravure profonde du silicium dans des plasmas SF6 et C4F8
(2015-02-18)
L’objectif de ce mémoire de maîtrise est de développer des outils de diagnostics non-invasifs et de caractériser in-situ les dérives de procédé dans un réacteur industriel utilisé en production pour la gravure profonde du ...